七七笔趣阁

第64章 星晓[11] ASML EUV发布！（第6页）

难度多大？

最浅显易懂的比喻便是?将一面直径不?超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不?能超过一根头发的直径。

而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。

全球只有?德国蔡司这家传承三?代?以上的企业才造得出这种反射镜。

当然，反射镜不?对华出口。

盛明安：“不?用担忧反射镜能不?能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”

“数据、模型，不?管失败成功，统统记录下来。”

盛明安语速打机关枪似的，斩钉截铁、不?容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有?序，所有?的技术难点都可以被轻松解决。

他胸有?成竹，心有?沟壑。

他不?必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个?人退怯、不?自信的心。

“杜颂，打开你的modelica先进?行?初步的超精密激光器建模仿真。”

modelica是?一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。

杜颂：“已在创建。”

他领着自己小组成员低头忙碌。

“雷客，你调整一下光路结构。”

“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果?计算查找表修正光与图案。

盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。

驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个?技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进?的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个?问题。